| Količina: | |
|---|---|
Aplikacija
1. Ferrosilicon z visoko čistostjo se pogosto uporablja pri izdelavi in vlivanju jekla. V procesu izdelave jekla je treba jeklo oksigenirati, da doseže idealno visokotemperaturno okolje, preveč kisika v poznejši fazi pa ponavadi proizvaja več oksidov v jeklu, kar vpliva na kakovost jekla. Hkrati lahko Ferro Silicij učinkovito spodbuja tudi pretočnost jekla, izboljša stopnjo absorpcije, zmanjša proizvodne stroške in poveča dobiček jeklarne.
2. Visoko čistost Ferrosilicon se lahko uporablja tudi kot alternativa inokulantom pri vlivanju za izboljšanje tvorbe in povečanje števila evtektičnih peletov. Dodajanje ferosilikona z visoko čistostjo pri proizvodnji duktilnega železa lahko učinkovito prepreči nastanek karbidov v železu in spodbuja padavine in sferoidizacijo grafita. Učinkovito lahko izboljša pretočnost železa in tako prepreči zamašitev vtičnice in zmanjša težnjo belih ust v kastingu.
| Model | Kemična sestava (%) | |||||||||||
| Si | Ti | C | Al | Str | S | Mn | Cr | CA | V | Ni | B | |
| ≥ | ≤ | |||||||||||
| GC FESI75T10.01-A | 75.0 | 0.010 | 0.012 | 0.01 | 0.010 | 0.010 | 0.1 | 0.1 | 0.01 | 0.010 | 0.02 | 0.002 |
| GC FES175110.01-B | 0.015 | 0.03 | 0.015 | 0.010 | 0.2 | 0.1 | 0.03 | 0.020 | 0.03 | 0.005 | ||
| GC FESI75T10.015-A | 75.0 | 0.015 | 0.015 | 0.01 | 0.020 | 0.010 | 0.1 | 0.1 | 0.01 | 0.015 | 0.03 | |
| GC FES7510.015-B | 0.020 | 0.03 | 0.025 | 0.010 | 0.2 | 0.1 | 0.03 | 0.020 | 0.03 | |||
| GC FESI75T10.02-A | 75.0 | 0.020 | 0.015 | 0.03 | 0.025 | 0.010 | 0.2 | 0.1 | 0.03 | 0.020 | 0.03 | |
| GC FE5175110.02-B | 0.020 | 0.10 | 0.030 | 0.010 | 0.2 | 0.1 | 0.10 | 0.020 | 0.03 | |||
| GC FES175110.02-C | 0.050 | 0.50 | 0.010 | 0.2 | 0.1 | 0.50 | 0.020 | 0.03 | ||||
| zrnato | 0-5 mm | 5-50 mm | 5-100 mm | 10-50 mm | 10-100 mm | 50-100 mm | ||||||
Velikost delcev z visoko čistostjo: 10-50 mm, 50-100 mm ali prilagojena.
Pakiranje Ferrosilicon z visoko čistostjo: pakirano v tono vrečke, 1000kg/vrečko
Aplikacija
1. Ferrosilicon z visoko čistostjo se pogosto uporablja pri izdelavi in vlivanju jekla. V procesu izdelave jekla je treba jeklo oksigenirati, da doseže idealno visokotemperaturno okolje, preveč kisika v poznejši fazi pa ponavadi proizvaja več oksidov v jeklu, kar vpliva na kakovost jekla. Hkrati lahko Ferro Silicij učinkovito spodbuja tudi pretočnost jekla, izboljša stopnjo absorpcije, zmanjša proizvodne stroške in poveča dobiček jeklarne.
2. Visoko čistost Ferrosilicon se lahko uporablja tudi kot alternativa inokulantom pri vlivanju za izboljšanje tvorbe in povečanje števila evtektičnih peletov. Dodajanje ferosilikona z visoko čistostjo pri proizvodnji duktilnega železa lahko učinkovito prepreči nastanek karbidov v železu in spodbuja padavine in sferoidizacijo grafita. Učinkovito lahko izboljša pretočnost železa in tako prepreči zamašitev vtičnice in zmanjša težnjo belih ust v kastingu.
| Model | Kemična sestava (%) | |||||||||||
| Si | Ti | C | Al | Str | S | Mn | Cr | CA | V | Ni | B | |
| ≥ | ≤ | |||||||||||
| GC FESI75T10.01-A | 75.0 | 0.010 | 0.012 | 0.01 | 0.010 | 0.010 | 0.1 | 0.1 | 0.01 | 0.010 | 0.02 | 0.002 |
| GC FES175110.01-B | 0.015 | 0.03 | 0.015 | 0.010 | 0.2 | 0.1 | 0.03 | 0.020 | 0.03 | 0.005 | ||
| GC FESI75T10.015-A | 75.0 | 0.015 | 0.015 | 0.01 | 0.020 | 0.010 | 0.1 | 0.1 | 0.01 | 0.015 | 0.03 | |
| GC FES7510.015-B | 0.020 | 0.03 | 0.025 | 0.010 | 0.2 | 0.1 | 0.03 | 0.020 | 0.03 | |||
| GC FESI75T10.02-A | 75.0 | 0.020 | 0.015 | 0.03 | 0.025 | 0.010 | 0.2 | 0.1 | 0.03 | 0.020 | 0.03 | |
| GC FE5175110.02-B | 0.020 | 0.10 | 0.030 | 0.010 | 0.2 | 0.1 | 0.10 | 0.020 | 0.03 | |||
| GC FES175110.02-C | 0.050 | 0.50 | 0.010 | 0.2 | 0.1 | 0.50 | 0.020 | 0.03 | ||||
| zrnato | 0-5 mm | 5-50 mm | 5-100 mm | 10-50 mm | 10-100 mm | 50-100 mm | ||||||
Velikost delcev z visoko čistostjo: 10-50 mm, 50-100 mm ali prilagojena.
Pakiranje Ferrosilicon z visoko čistostjo: pakirano v tono vrečke, 1000kg/vrečko
